电子束曝光机是高精密微纳加工与芯片制造的核心装备，广泛应用于半导体、微电子器件、微纳光学、微机电系统、量子器件和芯片等领域，是我国“卡脖子”难题之一。本项目突破了高亮度电子枪、高稳定多级电子光学系统、12英寸激光干涉精密位移台、高精度图形发生器等多项关键技术，实现了国内首台商业化电子束曝光机的研制，获北京市首台(套)重大技术装备认定，技术水平位居同类产品世界前三。形成30kV、50kV、100kV系列产品，为我国前沿科学探索以及尖端制造提供了重要支撑。本项目由北京金竟科技有限责任公司牵头研发。

高精度电子束曝光整机

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