高精度、高效地制造压印母版对高端微纳光电子芯片制造极为重要。基于电子束光刻套刻的主流压印母版加工存在工艺步骤多、精度和良率低、工艺周期长等痛点。本项目首次开发数据融合辅助的一步电子束灰度光刻压印母版制造技术及在线3D测量和缺陷修复技术，将母版加工周期从2-3个月压缩到1个月内、精度从百纳米改善至纳米。为复杂3D 结构压印母版加工提供了支撑。本项目由天津华慧芯科技集团有限公司牵头研发。

纳米压印母版实物图

技术路线图