运用化学反应定比计量、气液平衡等原理，全球首创“一步法”合成新一代绿色环保型、具有极高的清洗效率的半导体芯片蚀刻清洗剂ClF3技术，颠覆了传统的ClF3“三步法”合成工艺，满足芯片尤其是“14 nm及更高节点”的市场需求，实现自主可控，解决国内芯片关键材料“卡脖子”难题”。

• 首创一步法合成高纯ClF3成套技术，制备出ClF3纯度达99.995%，HF含量<50 ppmv，金属离子杂质<0.001 ppmw的产品，产品质量高出国外1.5个数量级，居国际领先

• 开发出全球首台高性能耐腐蚀（耐氟氯等化合物）气相色谱仪，实现氟氯化合物、腐蚀性杂质全组分精准分离、高效定量分析

• 该技术目前正在进行工程化验证，ClF3纯度99.99%的产品已经产业化，并实现给中芯国际和长鑫存储等代表性企业稳定供货。

工艺流程示意图及成果